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RIW 2010, 446
Ma, Qian und Jiang, Ge 
Ma, Qian und Jiang, Ge
Die dritte Revision des Patentgesetzes der Volksrepublik China

Anmeldung, China, Erfindung, Gebrauchsmuster, Geschmacksmuster, Innovation, Lizenzgebühr, Neuheitsschutz, Parallelanmeldung, Patent, Reform des Patentgesetzes, Siehe China, VR China, Zwangslizenz, Überblick

RIW 2010, 446 (Heft 7)
Am 27. 12. 2008 wurde die dritte Revision des Patentgesetzes der Volksrepublik China (Patentgesetz) vom XI. Nationalen ...

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